光催化反應器

產品品牌：那央

產品介紹：

光催化反應器，定制加工服務包括微通道的刻蝕、芯片切割打孔和芯片鍵合，我們經過數年如一日的工藝探索，將上述工藝進行優化，可實現常用多做玻璃材料的微通道加工和芯片鍵合，并建成低成本大批量柔性生產線，即可滿足科研用戶小量多次的科研需求，又可滿足微化工產業化用戶微通道反應器工藝開發和生產的要求。

• 可加工玻璃材質：鈉鈣玻璃（也即蘇打玻璃或綠玻璃），高硼硅玻璃（康寧、肖特）和石英玻璃（JSG-2）
• 微通道加工方式：HF濕法刻蝕，激光刻蝕和機械加工
• 切割和打孔方式：激光加工
• 微通道加工尺寸：HF濕法刻蝕，常用微反應器微通道尺寸為50μm~1000μm（寬度加工能力小可達2μm，深度可控制在nm級別）；激光加工，常用微反應器微通道尺寸為0.3~3mm（由于激光加工微通道底部粗糙度較大，加工大尺寸可選）。
• 微通道深寬比：HF濕法刻蝕一般按照以下公式設計，預期寬度=設計寬度+刻蝕深度×2×a（a為刻蝕系數，主要由玻璃材料決定）；若選激光加工方式，深寬比基本不受限制。
• 玻璃芯片鍵合：低溫預鍵合，高溫強化鍵合（低于軟化溫度），不會導致微通道在鍵合過程中壓縮塌陷；可實現雙層、三層和更多層鍵合。
• 承受流體壓力：可達20bar，若加載環壓，可達10Mpa甚至40Mpa，后者適用于石油驅替研究（本公司可提供環壓裝置定制）。
• 流體驅動：那央提供成套成熟的流體進出口接頭和夾具，可配套注射泵、蠕動泵及柱塞泵等。
• 溫度控制：那央提供成套成熟的溫度控制設備，恒溫加熱（或梯度加熱）或恒溫制冷。

玻璃微通道芯片反應器濕法刻蝕：

>>底面光滑
>>透光性好
>>微通道邊緣整齊平滑

玻璃微通道芯片反應器激光刻蝕：

>>可加工大尺寸微通道
>>流體通量高
>>流體壓降小
>>底面為毛面，粗糙度約0.5μm
>>微通道邊緣約1~50μm崩邊

鈉鈣玻璃、硼硅玻璃和石英玻璃部分性能參數對比：